装备名称 Equipment Name

单晶槽式制绒装备 Batch-type Mono-crystalline Texturing Equipment

装备型号 Equipment Model

SC-CSZ12000F-16G

装备用途 Equipment Application

主要对单晶硅太阳能电池用硅片举行绒面侵蚀和洗濯处置惩罚
。

Used for texturing& cleaning of mono crystalline wafers.

工艺流程 Process Flow

去损伤→预洗濯→单晶制绒→后洗濯或O3洗濯→酸洗→预脱水→烘干（供参考）  

Saw damage removal→Pre-cleaning→Mono-texturing→Post-cleaning/O3 cleaning→Acid cleaning→Hot water drying→Drying (for reference only)

手艺特点  Features

1、产能：600片/批， 12000片/小时——210硅片（100片花篮）；720片/批，15000片/小时——182硅片（120片花篮）
。

Throughput:600pcs/batch,12000pcs/h——210 wafer(100pcs cassette),720pcs/batch,15000pcs/h——182 wafer(120pcs cassette).

2、工艺槽循环量可调
。

Process bath circulation volume adjustable.

3、制绒金字塔匀称，刻蚀深度可调
。

Uniform pyramids texture, etch depth adjustable.

4、支持最薄120μm硅片
。

Wafer thickness handling capability up to 120μm.

5、清洁干燥区域，自清洁干燥系统
。

With clean dry area and self-clean dry system.

6、低H2O2消耗
。

Low H2O2 consumption.

7、快速换液，在线换液
。

Quick inline bath change.

8、支持MES、RFID及选配在线称重功效
。

Available with MES, RFID system, inline weight testing optional.

装备参数 Parameters