人生就是博(中国区)官方网站出货光掩膜洗濯装备
克日，公司子公司创微微电子（常州）有限公司（以下简称“创微微电子”）自主研发的光掩膜洗濯装备在多家终端Fab厂完成验证并实现量产交付，提供的装备在颗�？刂啤⑽匏邸⑼饷睬褰喽壬隙贾阆冉瞥桃�。
在光掩膜洗濯领域，创微微电子已形成完整产品矩阵，笼罩5"–9"多种尺寸石英光掩膜，支持前后面全自动洗濯、可选AOI颗粒检测、SMIF自动上下料，要害零部件国产化率超80%，软件完全自主开发。
光掩膜洗濯装备产品系列
1. CS+150 MC 系列（Spin Type / Bench + Spin Type）
专为6025型石英玻璃光掩膜设计的单片式洗濯装备，提供纯Spin Type及Bench+Spin复合工艺两种设置。
? 适用基板：6025型石英玻璃
? 作业模式：单片式，支持Wet Dry In / Dry Out
? 工艺腔体：Fork Hand Shower、UV、Rough、Edge、Surface×2、SPM、SC-1/Final等
? 配套系统：CSM/CDS子装备、O?-DIW、H?-DIW、O?剖析器等
? 特点：紧凑多工艺集成，Bench+Spin可同时知足槽式与旋转洗濯需求
2. CS+150 Spin Type Mask Clean Tool
紧凑型单片Spin洗濯装备，尺寸约3300×2030×2200 mm，SUS304框架+SPCC喷涂外壳。
? 工艺流程：SMIF取片 → Buffer/Aligner → Flipper翻转 → UV → 工艺腔洗濯 → 回SMIF
? 焦点�？椋�双Chamber、UV、Flipper、Buffer、多枢纽机械人
? 特点：全自动前后面洗濯、流程闭环、高清洁机械人传输
3. S+200 槽式洗濯装备
面向5"–9"多种尺寸光掩膜的单片洗濯装备，支持5009/5015/5025/6009/6015/6025/70XX/90XX等规格。
? 收支料：60XX支持SMIF自动，50XX/70XX/90XX支持Cassette手动，Dry In Dry Out
? 作业模式：多片式，支持Wet Dry In / Dry Out
? 工艺槽体：DHF，HCL，SC-1/Final Rinse等
? 配套系统：CSM/CDS子装备等
? 干燥方法：Marangoni dryer
? 特点：紧凑多工艺集成，知足Semi认证标准及全自动化天生要求
焦点手艺优势
1. 全流程自主化：软件完全自主，要害零部件国产化率超80%。
2. 产品矩阵完整：单片Spin、Bench+Spin、槽式、单腔/双腔、多种尺寸笼罩，知足差别客户产能与工艺需求。
3. 多工艺高集成：UV、SPM、SC-1、Edge、Surface、Brush、Megasonic等工艺无邪设置。
4. 自动化与清洁度：SMIF/OHT自动上下料、多枢纽无尘机械人、前后面翻转洗濯。
创微微电子专注集成电路湿法工艺装备研爆发产。产品笼罩6–12英寸批式及单晶圆刻蚀/洗濯、光掩膜石英衬底与光掩膜版洗濯、光学玻璃洗濯等，服务晶圆制造、第三代半导体（SiC/GaN）、硅基功率器件、光掩膜及先进封装领域，提供“工艺+装备+服务”整厂一体化交付。
创微微电子将一连以工程手艺为驱动，完善光掩膜洗濯产品线，为中国及全球半导体工业提供高性能、高可靠性的湿法解决计划，助力国产装备在高端制造领域实现更大突破。
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